RTP快速退火炉\CVD生长系统设备
STR CVD生长系统设备为洛阳赛特瑞高温电炉生产的1200℃滑动式管式炉，可作为RTP快速退火炉使用。快速热处理退火炉简称 RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），具有快速升温特点。
通过采用大功率红外线辐射方式快速预加热，快速退火炉温度均匀度≤1%，处理的大尺寸可以达到200mm，温度可以达到1200摄氏度，处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行，做多可支持4~6路进气，可以用到的气体包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。
RTP快速退火炉已经成为半导体、铁电体以及镀膜行业的重要退火技术。但是目前，只有大型的、昂贵的生产设备才能完成快速热处理，这大大降低了研发工作的效率（尤其是小的样品）。
RTP快速退火炉产品用途：
此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
RTP快速退火炉产品组成：
CVD生长系统设备配置：
1.1200度开启式真空管式炉（可选配单温区、双温区）。
2.多路质量流量控制系统
3.真空系统（可选配中真空或高真空）
产品特点：
1 控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单。
2 气路快速连接法兰结构采用本公司有的知识产权设计,提高操作便捷性。
3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵
防止意外漏气造成分子泵损坏，延长系统使用寿命。
CVD生长系统主要技术参数：
| 系统名称 | 1200℃滑动式管式炉/双温区CVD系统 | ||
| 系统型号 | CVD-12IH-3Z/G | CVD-12IIH-3Z/G | CVD-12II6H-3Z/G |
| 额定温度 | 1200℃ | ||
| 加热区长度 | 420mm | 420mm | 6加厚 |
| 恒温区长度 | 2加厚 | 280mm | 400mm |
| 温区 | 单温区 | 双温区 | 双温区 |
| 石英管管径 | Φ50/Φ60/Φ80/Φ100mm | Φ50/Φ60/Φ80mm | Φ80/Φ100mm |
| 额定功率 | 2.5Kw | 3.2Kw | 4.8Kw |
| 额定电压 | 220V | ||
| 滑动距离 | 290mm | 485mm | |
| 滑动方式 | 自动滑动/手动滑动 | ||
| 温度控制 | 国产程序控温系统50段程序控温； | ||
| 控制精度 | ±1℃ | ||
| 炉管zui高工作温度 | ＜1200℃ | ||
| 气路法兰 | 密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术，在密封法兰与管外壁间形成了密封，在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效，该密封法兰的安装只需在*次使用设备的时候安装 | ||
| 气体控制方式 | 质量流量计 | ||
| 气路数量 | 3路（可根据具体需要选配气路数量） | ||
| 流量范围 | 0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定 | ||
| 精度 | ±1%F.S | ||
| 响应时间 | ≤4sec | ||
| 工作温度 | 5-45℃ | ||
| 工作压力 | 进气压力0.05-0.3Mpa(表压力） | ||
| 系统连接方式 | 采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪 | ||
| 规格 | 中真空 | 高真空 | |
| 系统真空范围 | 10Pa-100Pa | 1x10-3Pa-1x10-1Pa | |
| 真空泵 | 双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa，抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器，额定电压220V，功率0.55Kw | 真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa抽气速度1200L/S额定电压220V功率2KW | 真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa抽气速度1600L/S额定电压220V功率2KW |
| 炉体外形尺寸 | 340×580×555mm | 480×770×605mm | |
| 系统外形尺寸 | 530x1440x750mm | 530x1440x750mm(不含高真空) | |
| 设备总重量 | 235kg | 340kg | |
此CVD生长系统设备包含红外金面反射炉和高精度的温度控制器。可根据需求选配相应的泵和气体接口。
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