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热门关键词: 气氛管式炉 CVD系统管式炉, 双温区管式炉 井式气体渗碳炉 井式炉 井式渗碳炉操作规程 高温荷重软化炉 全自动风冷热震试验炉
实验电炉CVD系统什么意思？CVD是Chemical Vapor Deposition的简称，是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。
真空CVD系统简称CVD系统，CVD系统由供气系统+管式炉+抽气系统 ，额定温度可以达到1200度、1400度、1700度，加热区间可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合
1700度管式炉
这款CVD系统是由8路供气系统+STR1200双温区管式炉+真空系统组成
STR1200双温区管式炉:以硅碳棒或电炉丝为加热元件，有两个加热区，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，每个加热区能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端装有304不锈钢法兰，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa，该炉为卧式，两个温区可以立控制、设置不同的温度，使用方便，操作简单。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的不错产品.。
实验室想买一套CVD的设备请问管式炉什么牌子?洛阳赛特瑞高温电炉专业生产CVD管式炉CVD实验真空炉。
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1200℃管式炉CVD系统 |
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| 单温区、双温区、三温区 | |
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STR- CVD-12L |
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1200℃ |
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420mm |
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2加厚 |
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Φ50/Φ60/Φ80/Φ100mm |
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2.5Kw |
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220V |
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厦门宇电 控温系统50段程序控温； |
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±1℃ |
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＜1200℃ |
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密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术，在密封法兰与管外壁间形成了密封，在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效，该密封法兰的安装只需在一第次使用设备的时候安装 |
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质量流量计 |
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3路（可根据具体需要选配气路数量） |
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0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定 |
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±1%F.S |
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≤4sec |
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5-45℃ |
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进气压力0.05-0.3Mpa(表压力） |
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采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪 |
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中真空 |
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10Pa-100Pa |
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双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa，抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器，额定电压220V，功率0.55Kw |
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340×580×555mm |
480×770×605mm |
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530x1440x750mm |
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230kg |
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