旋转料台式立式炉管
旋转料台式立式炉管
适用于 4 至 8 英寸晶圆的立式炉管可以灵活地满足生产线需求。可选择处理晶圆的数量从 50 到 150 不等。该立式炉管不仅可用于低温退火、氮化物 (Si3N4)、多晶硅和其他材料 LPCVD、氧化和扩散处理,还可用于 SiC 功率器件栅硅氧氮化、活化退火和其他超高温处理。
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旋转料台式立式炉管
适用于 4 至 8 英寸晶圆的立式炉管可以灵活地满足生产线需求。可选择处理晶圆的数量从 50 到 150 不等。该立式炉管不仅可用于低温退火、氮化物 (Si3N4)、多晶硅和其他材料 LPCVD、氧化和扩散处理,还可用于 SiC 功率器件栅硅氧氮化、活化退火和其他超高温处理。
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