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热门关键词: 玻璃陶瓷熔块炉 玻璃陶瓷熔块炉 氢气点火器 氢气还原炉 1500度真空钼丝炉带防爆 旋转料台式立式炉管 石油焦改性

玻璃陶瓷熔块炉:玻璃熔块炉玻璃陶瓷熔块炉
  • 玻璃陶瓷熔块炉:玻璃熔块炉玻璃陶瓷熔块炉

玻璃陶瓷熔块炉:玻璃熔块炉

  • 厂家: 洛阳赛特瑞
  • 别称:玻璃陶瓷熔块炉
  • 温度:1600℃
  • 规格:
  • 类型:坩埚炉
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  • 厂家电话:高温电炉
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    玻璃陶瓷熔块炉,陶瓷熔块炉可用于陶瓷、玻璃、搪瓷等行业实验室制备熔块、玻璃低温熔剂、搪瓷釉和结合剂,该设备具有安全节能、环保等诸多优点,是常用的高温节能熔块炉。

     

    主要技术参数

    电炉名称 玻璃陶瓷熔块炉
    设计电压 380v
    设计温度 1700℃
    长期工作温度 1650℃
    设计升温速率 1-40'℃min人性化可调节
    坩埚容积 1.6L
    绀祸材质 高纯锆石英(99.9%)
    装料及流料方式 顶部装料、底部流料
    粉碎搅拌(选配) 水箱带有电动粉碎装置,转速可调节带有数字变频器,采用不锈钢风叶搅拌
    控温精度 ±1℃
    保护装置 采用独立双回路控制,双回路保护;(超涩、超压、超流、断偶、断电、漏电、短路等)
    控温仪表 智能PID调节、微电脑自动控制,可编程序控温曲线,无需看守(自动升温、保温、降温),
    测温元件 B型铂佬铂(o-1820'℃)
    加热元件 1800u型硅钼棒
    耐火材料 双层耐温隔热,进口双层阻热复合氧化铝纤维板
    炉壳表面温度 43'℃
    炉体 双层阻热
    温度类别 1500℃、 1600℃

    坩埚常规规格

    型号

    坩埚容积(L)

    电压(v )

    功率(kw)

    控温精度

    STR GSF1-17

    0.9

    220

    4

    ±1℃

    STR GSF1-17L

    1.6

    380

    10

    ±1℃

    STR GSF3-17

    3

    380

    12

    ±1℃

    STR GSF5-17

    5

    380

    15

    ±1℃

    STR GSF10-17

    10

    380

    18

    ±1℃

    STR GSF18-17

    15

    380

    25


    ±1℃

    STR GSF30-17

    30

    380

    30

    ±1℃


    熔块炉工作原理

    将一个漏斗式坩埚置于炉内,将配好的熔块料直接从上边投入锆坩埚内,通电加热,当温度上升到指定温度时,熔块成熔融状态,由下面的小孔(坩埚底部有个流料孔),自动流入下面的容器中.坩埚底部有圆形孔流料口,由一根长塞棒与坩埚底部流料孔密封对接。塞棒处于下压状态(在自身重力下)与流料孔密封接触,保证加热过程不外漏。加热完成之后将塞棒向上提拉,开始放料。相反如果松开塞棒,则停止流料.

    结构特点

    炉壳:双层风冷碳钢结构,表面温升≤45℃,既降低热损又方便操作。

    炉衬:多层轻质氧化铝陶瓷纤维+高纯聚轻砖复合,蓄热量小、升温快(最大20℃/min),可急冷急热不开裂。

    加热元件:U型1800级硅钼棒四面布置,确保工作区温差≤±3℃。

    控温系统:B型双铂铑热电偶(0–1820℃)+PID智能程序,可编30–50段曲线,控温精度±1℃,具备超温、断偶、过流多重保护。

    升降机构(可选):液压/电动炉盖或炉体整体升降,便于投料、观察和维护

    坩埚底部开有流料孔,正常熔化时由长塞棒自重密封;熔制结束提拉塞棒,熔融玻璃液自动流入下方水淬槽或模具。

    搅拌功能(选配):炉盖顶部装可升降旋转的刚玉或SiC搅拌桨,转速50–2800 r/min可调,用于均化成分和加速气泡排出,提高熔块质量

    炉膛内坩埚采用锆石英材料,坩埚由:塞棒、坩埚盖、坩埚、坩埚底座等部分组成;玻璃融化后可直接拔出塞棒,玻璃液直接从坩埚底座流出。

    粉碎搅拌水淬槽(选配) 水箱带有电动粉碎装置,转速可调节带有数字变频器,采用不锈钢风叶搅拌

    工作流程

    装料:打开炉盖,将配好的玻璃原料直接投入漏斗式坩埚;

    升温:按设定曲线升至1500–1650℃并保温;

    澄清/均化:如需搅拌,启动顶部搅拌桨;

    出料:提升塞棒,熔体经底部孔口流入水淬桶或模具;

    冷却:炉膛可程序降温,或利用双层风冷快速冷却,准备下一锅。

    适用范围

    实验室小试:1–10L,用于釉料、低温熔剂、搪瓷釉配方开发;

    中试及小规模生产:10-30L,可连续水淬制粒,供陶瓷厂、玻璃厂配料使用;

    特殊材料:高硼硅、微晶玻璃、电子玻璃等高温熔块制备。


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