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热门关键词: PECVD系统 1200℃滑动双温区PECVD系统 小型升降式软质合金烧结炉 高温箱式气氛炉 人工智能气氛箱式电阻炉 梯度管式炉 开启式管式炉
1200℃滑动双温区PECVD系统为实验室用小型多温区PECVD，1200℃滑动双温区PECVD系统炉体具有2个温区，每个温区可立温控。
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成：
PECVD系统配置：
1、1200度开启式双温区真空管式炉
2、等离子射频电源
3、多路质量流量控制系统
4、真空系统（可选配中真空或高真空）
主要功能特点：
1、采用质加热元件，炉膛保温材料采用多晶纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，无杂球，纯度高，节能效果明显于国内纤维材料。
2、整个炉体采用双层内胆式结构，中间有气隙隔离，即使炉膛温度达到设计高点，炉体表面仍然可以安全触摸无滚烫感觉。
3、炉膛采用节能材料制作，整机能耗仅仅只有同等传统电炉的1/3，节能环保。
4、超温报警并断电，漏电保护，操作安全可靠具有多重防护功能。
5、PECVD管式炉系统由：射频电源，管式炉加热区系统，质子流量计供气系统，真空系统,气体定量系 统组成。
常规型号参数：
| 系统名称 | 1200C滑动双温区PECVD系统 | |
| 系统型号 | SGM PECVD60-12II4H-3Z | SGM PECVD100-12II6H-3Z |
| 设计温度 | 1200*C | |
| 加热区长度 | 420mm | 600mm |
| 恒温区长度 | 280mm | 390mm |
| 温区 | 双温区 | 双温区 |
| 石英管管径 | 50/60/80mm | 80-100mm |
| 额定功率 | 3. 2Kw | 4. 8Kw |
| 额定电压 | 220V | 220V |
| 滑动方式 | 手动滑动/自动滑动（由温度控制器自动控制移动。当程序完成，炉子按设定的速度滑动） | |
| 温度控制 | 国产程序控温系统30段程序控温 | |
| 控制精度 | ±1*C | |
| 炉管设计高工作温度 | V1200C | |
| 气路法兰 | 采用多环密封技术卡箍快速连接 | |
| 排风冷却装置 | 先进的空气隔热技术，结合热感应技术，当炉体表面温升到50℃时，排温风扇将自动启动，使炉体表面快速降温。 | |
| 气体控制方式 | 质量流量计（按键式） | |
| 气路数量 | 3路（可根据具体需要选配气路数量） | |
| 流量范围 | OYOOsccm （标准汽升/分，可选配）氮气标定 | |
| 精度 | ± 1%E. S | |
| 响应时间 | Isec | |
| 工作温度（流盘计） | 5-45*C | |
| 工作压力 | 进气压力0. 05-0. 3Mpa （表压力） | |
| 进气方式 | 采用防倒流设计 | |
| 规格 | 中真空 | 高真空 |
| 系统真空范围 | 10Pa-100Pa | 10-1PA,10-3Pa |
| 真空泵 | 翁整|鹘傩矗魏耨磷镰 看油污过馥器，额定电压220V,功率0.55Kw | 真空分子泵理论极限真空度5x106Pa抽气速率 1600L/S额定电压220V功率2K* |
| 信号频率 | 13. 56MHz ±0. 005% | |
| 功率输出范围 | 0-500W连续可调 | |
| 设计大反射功率 | 120W | |
| 射频输出接口 | 50 Q, N-type, temale | |
| 功率稳定度 | ±0. 1% | |
| 谐波分量 | W-50dbe | |
| 供电电压 | 单相交流（187V-253V）频率50/60HZ | |
| 整机功率 | 270% | |
| 屏幕显示 | 正方向功率，匹配器电容位置，偏置电压值 | |
| 整机尺寸 | 483 X 500 X 88mm | |
| 炉体外形尺寸 | 340X580X555mm | 480X770X605mm |
| 系统外形尺寸 | 530X2310X750nun | 530X2310X 750mm （不含高真空） |
| 系统总重量 | 270kg | 350kg |
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