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SGM TF50-12pecvd-4等离子体增强化学气相沉积系统为实验室用小型PECVD设备。
该PECVD(等离子体增强化学气相沉积)系统由φ50毫米小型滑动管式炉组成带真空泵和连接管道 , 射频电源、带有气体混合罐的多通道精密质量流量计和高质量无油真空泵。该设备可更新为不同的PECVD系统100-1200°C温度范围。溅射区的宽度在整个管内可调。 这种具有良好性价比的PECVD炉是生长纳米线或石墨烯以及各种薄膜的新工具，具有以下点:
1、与传统PECVD相比，处理温度更低
2、采用滑动炉，加热和冷却速度快
3、薄膜应力由射频电源控制。
4、这化学计量学可以调整工艺。
5、pecvd沉积SiOx、SiNx、SiOxNy等。
普通型4路混气PECVD
滑膛型4路混气PECVD
| 电炉型号 SGM TF50-12 | |
| 炉管尺寸 | 外径Φ50x1200mm毫米(更多不同尺寸可供选择) |
| 温度 |
设计温度1200摄氏度 工作温度≤1100℃ |
| 温度控制器 |
*PID自动控制visa SCR(可控硅整流器)功率控制，带相角触发、限流电阻
*30个可编程段，用于精度控制加热速率、冷却速率和停留时间。 *内置超温报警和保护功能，可在无人值守的情况下运行。
可选:
通过安装一个控制模块，炉子可以由PC机操作。《如果你》
与炉子一起订购PC控制模块，我们将安装并测试它
之前。
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| 加热速度 |
≤20摄氏度/秒
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| 长度 |
加热区长度230毫米 恒定区长度100毫米 |
| 温度精度 |
±1℃
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| 电压 | 208-240伏单相，50赫兹 |
| 标准配件 | 石英管1对，块1套，不锈钢法兰1套，硅密封圈2套，高温1对，坩埚挂钩1套 |
| 采用的配件 | 石英块、石英钩、石英坩埚、电阻真空计、供气系统、微调阀、水冷冷却器、油雾过滤器 |
| 力量 | 2.5千瓦 |
| 多路质子流量控制器供气系统 | |
| 电压 |
185～245伏/50赫兹
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| 力量 | 18W |
| 尺寸 |
600x600x650mm毫米
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| 标准量程能力 | 100、200、200、500SCCM(标准气体为N2，量程可选) |
| 工作温度 |
5~45摄氏度
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| 压力范围 |
0.1~0.5兆帕
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| 上限值压 |
3兆帕
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| 准确 | 1.5%FS |
| 线性 |
0.5~1.5%
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| 重复性精度 |
0.2%
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| 反应时间 | 气体特征:1~4秒；电特性:10秒 |
| 连接器类型 | 双套圈不锈钢系统 |
| 连接器 |
Φ6,1/3''
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| 真空压力仪器 | -0.1~0.15兆帕，0.01兆帕/格 |
| 球心阀 | Φ6 |
| 低真空系统 | |
| 抽速 |
8米/小时
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| 极限压力 |
5*10-1pa
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| 入口和出口 |
KF25
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| 喧闹的 |
54分贝(锁定时，你应该在离它1米远的地方测量)
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| 涂油质量 |
0.6-1L
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| 工作温度 |
10~40摄氏度
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| 电压 |
220伏50赫兹
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| 电机速度 |
1440转/分
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| 射频电源 | |
| 信号频率 |
13.56兆赫-0.005%
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| RF输出范围 |
0-100瓦
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| 力量 |
2.5千瓦,25A
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| RF输出连接 |
50Ω.n型
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| 功率稳定性 |
0.1%
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| 谐波成分 |
≤-50dbc
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| 电压 |
单相50/60Hz 220v±10%
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| 总效率 |
>=70%
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| 功率因数 |
>=90%
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| 冷却方式 | 风冷 |
| 尺寸 |
炉体:550×380×600毫米
带轨道：1500 x 380 x 620毫米
气体供应和真空系统:600×600×600毫米
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