PECVD系统 增强型化学气相沉积-洛阳西格马高温电炉

PECVD系统 增强型化学气相沉积

PECVD系统简介  

 PECVD系统是为了使传统的化学气象沉积(CVD)反应温度降低,在普通 CVD 装置的前端加入 RF 射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,进而利用等离子体的活性来促进反应,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统(PECVD)。
该型号 PECVD 为我公司设计新款,综合了国内大多数厂家的管式 PECVD 系统的点,在 PECVD 前端加入了气体预热区,实验证明此结构沉积速度快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。
控制部分采用了我公司自主研发的实验电炉全自动智能控制系统,使得操作更加简便,功能更加强大。

PECVD系统主要特点

气体预热——增加前端气体预热区,沉积速度更快,成膜效果更好;
智能控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制统一集中调节和操控,协调控制;
管内压力自动平衡——管内压力实时监测,自动平衡管内压力。
智能气路通断——每路气体均可定时通断,省时省力;
射频功率和开关定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间,系统自动运行;
炉膛移动速度可调——根据实验要求,用户可设定炉膛左右移动的速度可距离;
整机结构融为一体——移动方便,避免分散组装的困扰。
技术参数

高真空PECVD设备主要技术参数:

产品名称

高真空PECVD设备

滑轨管式炉部分(可选其他炉型:开启式管式炉)

产品型号

SGM TF1200-S5030-H

炉管尺寸

Φ50mmX1600mm

炉管材质

石英管

加热区

300mm

工作温度

1100℃

设计温度

1200℃

温控方式

K型热电偶

控制方式

触屏控制,带立摇臂,可以根据实际使用需求,调节温控屏的角度,使用更方便

控温精度

±1℃

温控保护

具有超温和断偶保护功能

升温速率

0-20ºC/min  ,建议10ºC/min

加热元件

含钼电阻丝

工作电压

AC 220V 单相 50HZ (电路电压用户可选择定制)

加热功率

3KW

炉膛材料

氧化铝多晶纤维

炉体结构

炉体带滑轨,可实现快速升温和降温

法兰接头

标配配有两个不锈钢真空法兰,已安装机械压力表和不锈钢截止阀

密封系统

该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸,气密性好。

壳体

不锈钢壳体

选配

辅助降温风扇


真空系统部分

名称

真空系统

主要参数

1.采用高真空分子泵组,极限真空度可达10-3pa

2.KF25快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连;

3.数字式真空显示,其测量范围为5×10-5- 1500mbar,测量精度高高


混气气路系统部分

名称

四路质量流量计(三、四、五路混气可选)

主要参数

四通道精密质量流量计:触屏控制,数字显示,自动控制。流量范围流量范围:

1.MFC 1-MFC4:0-1000sccm可调

2.一个混气罐

3.4个不锈钢针阀安装在供气系统的左侧,可手动控制4种气体;

4.进出气口:3进1出

流量控制:手动旋转式调节

连接方式:双卡套连接


等离子电源部分

名称

500W等离子电源

功率范围

0-500W(连续可调)

工作频率

13.56MHZ+0.005%

工作模式

连续输出

射频输出阻抗接口

N-type,female(50Ω)

功率稳定度

≤2W

额定反射功率

70W

电源保护设置

DC过流保护,功放过温保护,反射功率保护

供电电压/频率

单相交流(187V-253V)50-60HZ

冷却方式

风冷

整机尺寸

88X483X550 MM

整机重量

13.5KG

认证

ISO认证、CE认证

售后服务

质保一年,终身保修(耗材类:高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围)

 

PECVD系统等离子体化学气相沉积系统选型

项 目     推荐选型
  管式加热炉体    SGM 1200℃真空管式炉
  炉膛温区    单温区管式炉、双温区管式炉、三温区管式炉、滑轨管式炉
  石英反应炉膛    根据需求选择不同直径的石英管作为反应室。有Φ40,Φ60,Φ80,Φ100,Φ120,Φ150等规格可选。
  真空系统     根据需求选择不同真空效果的真空系统。有DZK10-1(极限真空0.1Pa),GZK10-3(极限真空0.001Pa),以及质高真空机组(极限真空0.0001Pa)供选择。
  质子流量供气系统     根据需求选择多路质子流量供气系统。有两路GQ-2Z,三路GQ-2Z,四路GQ-2Z,五路GQ-2Z或更多路供选择。
  射频等离子源     根据需求选择强度不同的射频电源。有DLZ300(300W),DLZ500(500W)或更大功率的射频电源供选择。
常见PECVD系统组合    1. 1200度60滑轨式微型管式炉,低真空系统,四路质子流量供气系统,300W射频电源
    SGM G1200-60S-SL,DZK10-1,GQ-4Z,DLZ300
   2. 1200度60滑轨式管式炉,低真空系统,四路质子流量供气系统,500W射频电源
    SGM G1200-60-SL,DZK10-1,GQ-4Z,DLZ500
   3. 1200度60双温区滑轨式管式炉,低真空系统,四路质子流量供气系统,500W射频电源
    SGM G1200-60II-SL,DZK10-1,GQ-4Z,DLZ500
   4. 1200度60三温区滑轨式管式炉,低真空系统,四路质子流量供气系统,500W射频电源
    SGM G1200-60III-SL,DZK10-1,GQ-4Z,DLZ500
   5. 1200度60微型预热炉,1200度60滑轨式管式炉,低真空系统,四路质子流量供气系统,500W射频电源
    SGM G1200-60S,SGM G1200-60-SL,DZK10-1,GQ-4Z,DLZ500

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