小型1200℃双温区可滑动管式cvd系统
1200度小型高真空双温区可滑动管式cvd系统由开启式双温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
该款小型1200℃双温区可滑动管式cvd系统由可滑动双温区管式炉+ 2路质子流量计供气系统+抽气系统组成！
该小型管式CVD系统采用双温区可滑动管式炉，该管式炉炉底安装一对滑轨，可用手滑动。可以达到快速升降温的目的，为取得较快加热速率，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品区。为获得较快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。物料可以在真空或者惰性气体环境下的升温速率或降温速率达到100°C/s，是低成本快速热处理的高温管式炉。
主要用途：
小型cvd系统可用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所
主要功能和特点：
1、高温管式炉为1200度双温区管式炉，管式炉炉底安装一对滑轨，可用手滑动，可以达到快速升降温的目的。
2、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，真空可达0.0001Pa；
3、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；
4、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。
5、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；
6、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。
设备主要技术参数：
| 电炉名称 |
小型1200℃双温区可滑动管式cvd系统 |
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产品型号 |
TF60-12II |
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炉体结构 |
双层壳体结构，配有风冷系统 |
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炉膛材质 |
真空吸附成型的高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好 |
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炉管材质 |
高纯石英管，φ60*1500mm ；可选外径Φ60/80/100 |
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密封法兰 |
不锈钢快速挤压密封法兰 |
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温控系统 |
温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降 温程序； |
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显示模式 |
仪表面板显示 |
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控温精度 |
±1℃ |
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加热元件 |
含钼电阻丝0Cr27Al7Mo2 |
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测温元件 |
K型热电偶（可选购增加内置热电偶，实时监测加热物料温度） |
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设计温度 |
1200℃ |
| 连续工作温度 | ≤1150℃ |
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升温速度 |
推荐≤10℃/min，蕞快升温速度30℃/min |
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降温速度 |
700℃以上≤10℃/min |
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恒温区 |
加热区长度440mm，恒温区200mm |
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真空范围 |
0.1-0.001Pa |
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极限真空 |
6.67*10^-3Pa |
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真空泵 |
双级旋片真空泵或分子泵 |
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测量方式 |
复合真空计 |
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真空规管 |
电阻规+电离规 |
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2路质量流量计 混气室 |
控制方式：质量流量计,流量显示仪（七星华创、美国Omega、日本Horiba） 流量规格0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置） 线性±1%F.S 准确度±1%F.S 重复精度±0.2%F.S. 响应时间≤2sec 耐压3MPa 流量规格0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置） 线性±1%F.S 准确度±1%F.S 重复精度±0.2%F.S. 响应时间≤2sec 耐压3MPa 气路通道双通道（根据客户需求三路、四路混气） |
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机器电源 |
AC220V，50/60Hz；额定功率4kw |
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执行标准 |
GB/T 10066.1-2004、GB/T 10067.4-2005 |
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标准配置 |
主机1台，密封法兰1套，“O”型圈4个，石英管1根，管堵4个，坩埚钩1把， 说明书1份（内含合格证、保修卡） |
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可选混气 |
多通道浮子、质量混气系统 |
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选购件 |
炉架，各种石英、刚玉坩埚，石英管，高温手套，计算机控制软件，无纸记录仪等。 |
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