小型1200℃双温区可滑动管式cvd系统

1200度小型高真空双温区可滑动管式cvd系统由开启式双温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

该款小型1200℃双温区可滑动管式cvd系统由可滑动双温区管式炉+ 2路质子流量计供气系统+抽气系统组成！

该小型管式CVD系统采用双温区可滑动管式炉，该管式炉炉底安装一对滑轨，可用手滑动。可以达到快速升降温的目的，为取得较快加热速率，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品区。为获得较快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。物料可以在真空或者惰性气体环境下的升温速率或降温速率达到100°C/s，是低成本快速热处理的高温管式炉。

主要用途：

小型cvd系统可用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所

主要功能和特点：

1、高温管式炉为1200度双温区管式炉，管式炉炉底安装一对滑轨，可用手滑动，可以达到快速升降温的目的。

2、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，真空可达0.0001Pa；

3、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；

4、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。

5、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；

6、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。

设备主要技术参数：

电炉名称	小型1200℃双温区可滑动管式cvd系统
产品型号	TF60-12II
炉体结构	双层壳体结构，配有风冷系统
炉膛材质	真空吸附成型的高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好
炉管材质	高纯石英管，φ60*1500mm ；可选外径Φ60/80/100
密封法兰	不锈钢快速挤压密封法兰
温控系统	温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序；
显示模式	仪表面板显示
控温精度	±1℃
加热元件	含钼电阻丝0Cr27Al7Mo2
测温元件	K型热电偶（可选购增加内置热电偶，实时监测加热物料温度）
设计温度	1200℃
连续工作温度	≤1150℃
升温速度	推荐≤10℃/min，蕞快升温速度30℃/min
降温速度	700℃以上≤10℃/min
恒温区	加热区长度440mm，恒温区200mm
真空范围	0.1-0.001Pa
极限真空	6.67*10^-3Pa
真空泵	双级旋片真空泵或分子泵
测量方式	复合真空计
真空规管	电阻规+电离规
2路质量流量计混气室	控制方式：质量流量计,流量显示仪（七星华创、美国Omega、日本Horiba）流量规格0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置）线性±1%F.S 准确度±1%F.S 重复精度±0.2%F.S. 响应时间≤2sec 耐压3MPa 流量规格0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置）线性±1%F.S 准确度±1%F.S 重复精度±0.2%F.S. 响应时间≤2sec 耐压3MPa 气路通道双通道（根据客户需求三路、四路混气）
机器电源	AC220V，50/60Hz；额定功率4kw
执行标准	GB/T 10066.1-2004、GB/T 10067.4-2005
标准配置	主机1台，密封法兰1套，“O”型圈4个，石英管1根，管堵4个，坩埚钩1把，说明书1份（内含合格证、保修卡）
可选混气	多通道浮子、质量混气系统
选购件	炉架，各种石英、刚玉坩埚，石英管，高温手套，计算机控制软件，无纸记录仪等。