半导体加工行业双温区管式炉：半导体级管式炉
半导体级管式炉为炉体可滑动管式炉，炉体可以移动推拉,以加速低温段的降温
技术指标
●适用工艺片尺寸：2~8英寸圆片或方片
●常用工作温度：400～1000℃
●恒温区长度及精度：≤±0.5℃/400~800mm （600～1000℃）；
≤±1℃/400~800mm （300～600℃）
●最大升温速率: 10℃/min
●极限真空度：≤5×10-3Pa；
●气路系统：氧气、氮气、氩气;
应用范围
用于陶瓷电路、传感器烧结及退火处理、永磁合金制造、真空钎焊、真空除气、金属材料的无氧化光亮热处理等工艺。
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