VF422-1300真空热处理炉：高真空钼片加热炉

VF422-1300真空热处理炉为高真空钼片加热炉，为实验室用小型高真空炉。

VF422-1300真空热处理炉为高真空钼片加热炉，1200度真空烧结炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金刚石烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理.

主要技术参数

真空系统参数

气路系统

保护气氛 高纯氩气。充气压力为2Bar。手动球阀、电磁阀、防爆阀、微调阀、316L不锈钢管路、扩散硅压力传感器、电接点压力表、浮子流量计组成。系统可根据不同温度段充入不同压力的冷却气体，充气压力到达压力上限设定点可自动停止充气，超压时可自动排压，当低于压力下限设定点又可自动补气。带有一路手动，用于高温停水充气保护。

冷却系统

真空炉炉体、炉门、真空机组、水冷电极都需要冷却水。该系统由主供水管分配到各冷却部位，采用闭式水循环系统，每个电极冷却均配有水流量观察仪，主管路配备水压报警系统。进水有分支接到自来水管道上，以备停电时紧急使用。建议配8P工业制冷机

安全系统

安全系统包括：停水、超温、加热过流、旋片泵、分子泵，设备具有自检、故障自诊断、自动保护、防止误操作等功能。并具有声光报警提示和具备相应的联锁、互锁保护

安全系统（环境条件）

环境条件： 1）环境温度：-15~45℃ 2）海拔高度：≤2000m 3）环境相对湿度：≤75%

电源条件：1）额定电压：三相380V（±10V） 2）额定频率：50Hz 3）整机配电功率：≥35KW

水冷条件：1）水压：0.2~0.4MPa 2）进水温度：≤15℃ 3）水流量：≥5m3/h 4）水质要求：不含泥沙及杂质的软水，电阻率≥1M(Ω·mm2/m)，PH≈7。本产品在运行时要求持续供应符合要求的冷却水，为保证本产品的安全，需方须自备紧急用水源，当停电时仍有冷却水供给。

气体条件：1）氮气：用于保护气氛纯度≥99.999%，0.2~0.4MPa 2）压缩空气：用于启动装置的驱动气源、压力0.3~0.6MPa，无油、无水干净的气体。

炉膛常规型号规格