1200度真空井式坩埚炉是由石英坩埚或者氧化炉坩埚和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。加热温度可达1200℃。该系列真空井式坩埚炉采用智能温控系统,具有安全可靠,操作简单,控温精度高,保温效果好,炉膛温度均匀性高,可通气氛抽真空等特点,广泛应用于高等院校,科研院所,工矿企业等实验和小批量生产。
1200度真空井式坩埚炉
真空井式坩埚炉以含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,具有真空装置,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
主要用途:
高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片,也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。
主要技术参数
电炉名称:1200℃真空井式坩埚炉
产品型号:CM2034-12
电炉结构:井式,可装真空装置,能在多种气氛下工作,50段程序控温
炉门结构:上开式
炉膛尺寸:直径200x高340mm(可按需定制)
常用温度:≤1100℃
设计温度:1200℃
升温速度 0~30℃/min(建议不超过20℃)
加热元件:含钼电阻丝
控温方式:50段智能化程序PID模糊控制
恒温精度:±1℃
控温仪表:智能温控仪
密封方式:全封闭
炉 膛:氧化铝多晶纤维炉膛,设计合理,经久耐用,保温性能好,节能
测温元件:K型热电偶
真空极限 ≤0.1MPa
额定功率:≤3kw
工作电源:AC220V 50/60HZ
外形尺寸:450x550x650mm
重 量:70kg
主要配件
密封法兰1套,坩埚1个,真空泵1台,高温手套1副,热电偶1根等
实验室用小型真空坩埚炉
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