1200℃滑动双温区PECVD系统为实验室用小型多温区PECVD,1200℃滑动双温区PECVD系统炉体具有2个温区,每个温区可立温控。
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成:
PECVD系统配置:
1、1200度开启式双温区真空管式炉
2、等离子射频电源
3、多路质量流量控制系统
4、真空系统(可选配中真空或高真空)
主要功能特点:
1、采用质加热元件,炉膛保温材料采用多晶纤维材料,保温性能好,耐用,拉伸强度高,无杂球,纯度高,节能效果明显于国内纤维材料。
2、整个炉体采用双层内胆式结构,中间有气隙隔离,即使炉膛温度达到设计高点,炉体表面仍然可以安全触摸无滚烫感觉。
3、炉膛采用节能材料制作,整机能耗仅仅只有同等传统电炉的1/3,节能环保。
4、超温报警并断电,漏电保护,操作安全可靠具有多重防护功能。
5、PECVD管式炉系统由:射频电源,管式炉加热区系统,质子流量计供气系统,真空系统,气体定量系 统组成。
常规型号参数:
系统名称 | 1200C滑动双温区PECVD系统 | |
系统型号 | SGM PECVD60-12II4H-3Z | SGM PECVD100-12II6H-3Z |
设计温度 | 1200*C | |
加热区长度 | 420mm | 600mm |
恒温区长度 | 280mm | 390mm |
温区 | 双温区 | 双温区 |
石英管管径 | 50/60/80mm | 80/100mm |
额定功率 | 3. 2Kw | 4. 8Kw |
额定电压 | 220V | 220V |
滑动方式 | 手动滑动/自动滑动(由温度控制器自动控制移动。当程序完成,炉子按设定的速度滑动) | |
温度控制 | 国产程序控温系统30段程序控温 | |
控制精度 | ±1*C | |
炉管设计高工作温度 | V1200C | |
气路法兰 | 采用多环密封技术卡箍快速连接 | |
排风冷却装置 | 先进的空气隔热技术,结合热感应技术,当炉体表面温升到50℃时,排温风扇将自动启动,使炉体表面快速降温。 | |
气体控制方式 | 质量流量计(按键式) | |
气路数量 | 3路(可根据具体需要选配气路数量) | |
流量范围 | OYOOsccm (标准汽升/分,可选配)氮气标定 | |
精度 | ± 1%E. S | |
响应时间 | Isec | |
工作温度(流盘计) | 5-45*C | |
工作压力 | 进气压力0. 05-0. 3Mpa (表压力) | |
进气方式 | 采用防倒流设计 | |
规格 | 中真空 | 高真空 |
系统真空范围 | 10Pa-100Pa | 10-1PA,10-3Pa |
真空泵 | 翁整|鹘傩矗魏耨磷镰 看油污过馥器,额定电压220V,功率0.55Kw | 真空分子泵理论极限真空度5x106Pa抽气速率 1600L/S额定电压220V功率2K* |
信号频率 | 13. 56MHz ±0. 005% | |
功率输出范围 | 0-500W连续可调 | |
设计大反射功率 | 120W | |
射频输出接口 | 50 Q, N-type, temale | |
功率稳定度 | ±0. 1% | |
谐波分量 | W-50dbe | |
供电电压 | 单相交流(187V-253V)频率50/60HZ | |
整机功率 | 270% | |
屏幕显示 | 正方向功率,匹配器电容位置,偏置电压值 | |
整机尺寸 | 483 X 500 X 88mm | |
炉体外形尺寸 | 340X580X555mm | 480X770X605mm |
系统外形尺寸 | 530X2310X750nun | 530X2310X 750mm (不含高真空) |
系统总重量 | 270kg | 350kg |
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