产品详情

1200℃滑动双温区PECVD系统为实验室用小型多温区PECVD，1200℃滑动双温区PECVD系统炉体具有2个温区，每个温区可立温控。

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

产品组成：

PECVD系统配置：

1、1200度开启式双温区真空管式炉

2、等离子射频电源

3、多路质量流量控制系统

4、真空系统（可选配中真空或高真空）

主要功能特点：
1、采用质加热元件，炉膛保温材料采用多晶纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，无杂球，纯度高，节能效果明显于国内纤维材料。
2、整个炉体采用双层内胆式结构，中间有气隙隔离，即使炉膛温度达到设计高点，炉体表面仍然可以安全触摸无滚烫感觉。
3、炉膛采用节能材料制作，整机能耗仅仅只有同等传统电炉的1/3，节能环保。
4、超温报警并断电，漏电保护，操作安全可靠具有多重防护功能。
5、PECVD管式炉系统由：射频电源，管式炉加热区系统，质子流量计供气系统，真空系统,气体定量系 统组成。

常规型号参数：

系统名称	1200C滑动双温区PECVD系统
系统型号	SGM PECVD60-12II4H-3Z	SGM PECVD100-12II6H-3Z
设计温度	1200*C
加热区长度	420mm	600mm
恒温区长度	280mm	390mm
温区	双温区	双温区
石英管管径	50/60/80mm	80/100mm
额定功率	3. 2Kw	4. 8Kw
额定电压	220V	220V
滑动方式	手动滑动/自动滑动（由温度控制器自动控制移动。当程序完成，炉子按设定的速度滑动）
温度控制	国产程序控温系统30段程序控温
控制精度	±1*C
炉管设计高工作温度	V1200C
气路法兰	采用多环密封技术卡箍快速连接
排风冷却装置	先进的空气隔热技术，结合热感应技术，当炉体表面温升到50℃时，排温风扇将自动启动，使炉体表面快速降温。
气体控制方式	质量流量计（按键式）
气路数量	3路（可根据具体需要选配气路数量）
流量范围	OYOOsccm （标准汽升/分，可选配）氮气标定
精度	± 1%E. S
响应时间	Isec
工作温度（流盘计）	5-45*C
工作压力	进气压力0. 05-0. 3Mpa （表压力）
进气方式	采用防倒流设计
规格	中真空	高真空
系统真空范围	10Pa-100Pa	10-1PA,10-3Pa
真空泵	翁整|鹘傩矗魏耨磷镰 看油污过馥器，额定电压220V,功率0.55Kw	真空分子泵理论极限真空度5x106Pa抽气速率 1600L/S额定电压220V功率2K*
信号频率	13. 56MHz ±0. 005%
功率输出范围	0-500W连续可调
设计大反射功率	120W
射频输出接口	50 Q, N-type, temale
功率稳定度	±0. 1%
谐波分量	W-50dbe
供电电压	单相交流（187V-253V）频率50/60HZ
整机功率	270%
屏幕显示	正方向功率，匹配器电容位置，偏置电压值
整机尺寸	483 X 500 X 88mm
炉体外形尺寸	340X580X555mm	480X770X605mm
系统外形尺寸	530X2310X750nun	530X2310X 750mm （不含高真空）
系统总重量	270kg	350kg

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