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热门关键词: PECVD系统 1200度小型PECVD系统 箱式气氛热处理炉 高温升降马弗炉 实验电炉加热元件 1750度刚玉莫来石薄板 氧化铝空心球砖

1200度小型PECVD系统PECVD系统
  • 1200度小型PECVD系统PECVD系统

1200度小型PECVD系统

  • 厂家: 西格马
  • 别称:PECVD系统
  • 温度:1200℃
  • 规格:
  • 类型:高温管式炉
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  • 厂家电话:高温电炉
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    1200度小型PECVD系统是由射频电源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成,可用于室温至1200℃条件下进行SiO2、SiNx薄膜的沉积,同时可实现TEOS源沉积,SiC膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料,可用于有机材料上高效保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。

    PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。

    产品组成

    PECVD系统配置;

    1、1200度开启式滑动单温区真空管式炉

    2、等离子射频电源

    3、4路质量流量控制系统

    4、真空系统(单购买)

    产品特点

    电源范围广;温度范围宽;溅射区域长;整管可调;精致小巧,性价比高,可实现快速升降温,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的不错选择,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

    常规型号参数

    系统名称 1200℃小型PECVD系统 1200℃小型PECVD系统
    系统型号 SGM TF60-12PECVD-2Z SGM TF60-12PECVD-4Z
    控制方式 手动 手动
    设计温度 1200℃
    加热区长度 200mm
    恒温区长度 100mm
    温区 单温区
    石英管管径 Φ60mm Φ60mm
    额定功率 1.2Kw 2Kw
    额定电压 220V
    滑动方式及距离 自动滑动;200mm 手动滑动;200mm
    温度控制 30段程序控温 30段程序控温
    控制精度 ±1℃
    炉管设计高工作温度 <1200℃
    气路法兰 采用多环密封技术卡箍快速连接
    排风冷却装置 先进的空气隔热技术,结合热感应技术,当炉体表面温升到50℃时,
    排温风扇将自动启动,使炉体表面快速降温。
    气体控制方式 质量流量计(按键式)
    气路数量 2路(2-4路) 4路(可根据具体需要选配气路数量)
    流量范围 0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定
    精度 ±1%F.S
    响应时间 1sec
    工作温度(流量计) 20-120℃
    工作压力 进气压力0.05-0.3Mpa(表压力)
    进气方式 采用防倒流设计
    规格 中真空(集成型请单购买)
    系统真空范围 10Pa-100Pa
    真空泵 双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa,抽气速率4L/S(选配:其他抽速真空泵),出气口配有油污过滤器,额定电压220V,功率0.55Kw
    信号频率 13.56MHz±0.005%
    功率输出范围 0W-500W 0W-100W
    设计大反射功率 350W 30W
    射频输出接口 50Ω,N-type,temale
    功率稳定度 ±0.1%
    谐波分量 ≤-50dbc
    供电电压 单相交流(187V-253V)频率50/60HZ
    整机功率 ≥70%
    屏幕显示 正方向功率,匹配器电容位置,偏置电压值
    炉体外形尺寸 290×350×340mm 290×350×495mm
    系统外形尺寸 420×1440×1100mm 530×2310×750mm
    系统总重量 270Kg
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